NVIDIA運算式微影平臺 臺積電採用

NVIDIA運算式微影平臺 臺積電採用

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臺積電。路透

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輝達(NVIDIA)持續協助客戶將加速運算導入到半導體生產中,該公司在 GTC 大會中宣佈,臺積電與新思科技(Synopsys)將突破性的輝達運算式微影平臺投入生產。NVIDIA cuLitho 可將半導體制造中運算密集型工作負載加速40至60倍。

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輝達指出,臺積電與新思科技將使用該公司的運算式微影平臺投入生產,以加速製造並突破下一代先進半導體晶片的物理極限。這兩家公司已將 NVIDIA cuLitho 整合至其軟體、製造流程與系統中,以加快晶片製造,並將在未來支持最新一代 Blackwell 架構 GPU 。

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運算式微影是半導體制造過程中最需要運算資源的工作負載,每年在 CPU 上消耗數百億小時。一組典型的光罩可能需要 3,000 萬或更多小時的 CPU 運算時間,半導體代工廠因此需建立大型資料中心。透過加速運算,350 個 H100 系統現在可取代 40,000 個 CPU 系統,加快生產時間,同時降低成本、空間和功耗。

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輝達創辦人暨執行長黃仁勳表示,運算式微影是晶片製造的基石。該公司與臺積電和新思科技合作,將 cuLitho 應用於加速運算和生成式AI,開拓半導體微縮的新領域。

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輝達強調,其推出新的生成式 AI 演算法增強 cuLitho,用於 GPU 加速運算式微影的軟體庫與目前基於 CPU 的方法相比,顯著改進半導體制造流程。

同時,臺積電總裁魏哲家指出,該公司與輝達合作,將 GPU 加速運算整合到公司工作流程中,從而實現效能大幅的躍升、顯著提高生產率、縮短週期時間以及降低功耗需求。臺積電目前也正在將 cuLitho 投入到公司的生產。

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